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電子束曝光系統(tǒng)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

ELS-F125是Elionix推出的世界上1st臺(tái)加速電壓達(dá)125KV的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm的精細(xì)圖形。(以下參數(shù)基于ELS-F125)

產(chǎn)品型號(hào)：ELS-F125/F100/HS50

更新時(shí)間：2024-06-17

廠商性質(zhì)：代理商

訪問(wèn)量：2055

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產(chǎn)地類別	進(jìn)口	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,電子,電氣,綜合

電子束曝光系統(tǒng)ELS-F125具有以下優(yōu)點(diǎn)：

l 超高書(shū)寫(xiě)精度

- 5 nm 線寬精度 @125 kV

- 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應(yīng)小化 @125 kV

l 大通量、均勻性好

- 寬視野書(shū)寫(xiě):500um視場(chǎng)下10 nm線寬

- 高束流下電子束直徑依然很小，大通量而不影響分辨率，2 nm電子束直徑@1 nA

l 界面用戶友好

基于Windows系統(tǒng)的CAD和SEM界面:

-簡(jiǎn)單易用的圖案設(shè)計(jì)功能

-易于控制的電子束條件

二、電子束曝光系統(tǒng)主要功能：

l 主要應(yīng)用

納米器件的微結(jié)構(gòu)

集成光學(xué)器件，如光柵，光子晶體等

NEMS結(jié)構(gòu)，復(fù)雜精細(xì)結(jié)構(gòu)

光刻掩模板，壓印模板

l 技術(shù)能力

三、應(yīng)用：

上一個(gè)：Lumina光學(xué)表面缺陷分析儀

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