Alpha-Step D-300/500 探針式輪廓儀支持臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力的2D 測(cè)量。Alpha-Step臺(tái)階儀光學(xué)杠桿傳感器技術(shù)提供高分辨率測(cè)量，大垂直范圍和低觸力測(cè)量功能。 ...
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美國(guó)EDAX能譜儀
EP6美國(guó) Cascade Microtech EP6探針臺(tái)
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產(chǎn)全功能掃描探針原子力顯微鏡
主動(dòng)隔振臺(tái)ARISTT
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯(lián)用系統(tǒng)
Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
iNano高精度臺(tái)式納米壓痕儀
納米團(tuán)簇束流沉積系統(tǒng)
P7晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
P170全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
Solver P47俄羅斯產(chǎn)高性?xún)r(jià)比掃描探針顯微鏡原子力
ET4000日本Kosaka輪廓儀（臺(tái)階儀）
Profilm 3D經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀 可測(cè)樣
Lumina光學(xué)表面缺陷分析儀
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Alpha-Step D-300/500 探針式輪廓儀支持臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力的2D 測(cè)量。Alpha-Step臺(tái)階儀光學(xué)杠桿傳感器技術(shù)提供高分辨率測(cè)量，大垂直范圍和低觸力測(cè)量功能。 ...
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非接觸式優(yōu)點(diǎn)就是測(cè)量裝置探測(cè)部分不與被測(cè)表面的直接接觸，保護(hù)了測(cè)量裝置，同時(shí)避免了與測(cè)量裝置直接接觸引入的測(cè)量誤差。Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀集成了六種光學(xué)計(jì)量技術(shù)。 ZDot 測(cè)量模式同時(shí)采集高分...
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Profilm 3D是一款兼具垂直掃描干涉 (VSI)和高精確度相移干涉 (PSI) 技術(shù)的經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀，其可以用于多種用途的高精度表面測(cè)量。我司有此機(jī)器可測(cè)樣。
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Lumina AT1光學(xué)表面缺陷分析儀可對(duì)玻璃、半導(dǎo)體及光電子材料進(jìn)行表面檢測(cè)。Lumina AT1既能夠檢測(cè)SiC、GaN、藍(lán)寶石和玻璃等透明材料，又能對(duì)Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進(jìn)行檢測(cè)，其...
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與X射線(xiàn)用氮化硅窗口類(lèi)似，透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應(yīng)力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小，適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規(guī)格。同時(shí)SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口...
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P-170是cassette-to-cassette探針式輪廓儀，將P-17臺(tái)式系統(tǒng)的測(cè)量性能和經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的HRP®-260的機(jī)械傳送臂相結(jié)合。 這樣的組合為機(jī)械傳送臂系統(tǒng)提供了低成本，適...
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P-7晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀保持了P-17技術(shù)的測(cè)量性能，并作為臺(tái)式探針輪廓儀平臺(tái)提供了好的性?xún)r(jià)比。 P-7可以對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測(cè)量，其掃描可達(dá)150mm而無(wú)需圖像拼接...
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高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）采用*制造工藝，可把平面納米壓印拓展到任意曲面。標(biāo)準(zhǔn)模板分為三類(lèi)：Quartz Molds, Silicon M...
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納米壓印的技術(shù)與工藝特點(diǎn)，*性地設(shè)計(jì)和制備工作于低真空環(huán)境下，結(jié)合正負(fù)壓可控調(diào)節(jié)并利用壓縮空氣作為壓印驅(qū)動(dòng)力的，通過(guò)壓力傳導(dǎo)裝置、緩沖與勻壓、壓力調(diào)節(jié)控制裝置等手段實(shí)現(xiàn)平穩(wěn)可靠可控的壓印過(guò)程，借助于多...
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俄羅斯產(chǎn)高性?xún)r(jià)比掃描探針顯微鏡原子力驅(qū)近系統(tǒng)的機(jī)械設(shè)計(jì)可使得經(jīng)過(guò)幾次驅(qū)近之后仍然能獲得相同的檢測(cè)區(qū)域。掃描位移大約為500nm，這個(gè)特點(diǎn)可以讓您在幾周內(nèi)仍然能夠研究相同的樣品區(qū)域。
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產(chǎn)品展示product
產(chǎn)品分類(lèi)
為了滿(mǎn)足現(xiàn)代材料研究的挑戰(zhàn)，Swift開(kāi)發(fā)了一系列*可定制的原位拉伸試樣臺(tái)。這些拉伸試樣臺(tái)適合多種顯微觀(guān)測(cè)系統(tǒng)，比如掃描電鏡、透射電鏡、光學(xué)顯微鏡、共聚焦顯微鏡等。支持EBSD，樣品加熱和冷卻,可實(shí)現(xiàn)...
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Alpha-Step D-300/500 探針式輪廓儀支持臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力的2D 測(cè)量。Alpha-Step臺(tái)階儀光學(xué)杠桿傳感器技術(shù)提供高分辨率測(cè)量，大垂直范圍和低觸力測(cè)量功能。 ...
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非接觸式優(yōu)點(diǎn)就是測(cè)量裝置探測(cè)部分不與被測(cè)表面的直接接觸，保護(hù)了測(cè)量裝置，同時(shí)避免了與測(cè)量裝置直接接觸引入的測(cè)量誤差。Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀集成了六種光學(xué)計(jì)量技術(shù)。 ZDot 測(cè)量模式同時(shí)采集高分...
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Profilm 3D是一款兼具垂直掃描干涉 (VSI)和高精確度相移干涉 (PSI) 技術(shù)的經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀，其可以用于多種用途的高精度表面測(cè)量。我司有此機(jī)器可測(cè)樣。
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iNano高精度臺(tái)式納米壓痕儀是一種緊湊，用戶(hù)友好的納米機(jī)械測(cè)量系統(tǒng)，設(shè)計(jì)用于硬涂層，薄膜和少量材料。該系統(tǒng)旨在進(jìn)行準(zhǔn)確，可重復(fù)的納米級(jí)機(jī)械測(cè)試，包括壓痕，硬度，劃痕和通用納米級(jí)測(cè)試。iNano具有很...
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Lumina AT1光學(xué)表面缺陷分析儀可對(duì)玻璃、半導(dǎo)體及光電子材料進(jìn)行表面檢測(cè)。Lumina AT1既能夠檢測(cè)SiC、GaN、藍(lán)寶石和玻璃等透明材料，又能對(duì)Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進(jìn)行檢測(cè)，其...
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Nano Indenter® G200原位納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)是一種準(zhǔn)確，靈活，使用方便的納米級(jí)機(jī)械測(cè)試儀器。 G200 測(cè)量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個(gè)數(shù)量級(jí)的形變測(cè)量。 可測(cè)量聚合...
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SPRm200 表面等離子共振顯微鏡 工作原理基于表面等離子共振（SPR）技術(shù)。是世界上1st臺(tái)將表面等離子體共振技術(shù)和光學(xué)顯微鏡巧妙結(jié)合為一體的生物傳感檢測(cè)儀。
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與X射線(xiàn)用氮化硅窗口類(lèi)似，透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應(yīng)力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小，適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規(guī)格。同時(shí)SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口...
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從產(chǎn)品研發(fā)到質(zhì)量控制，該系統(tǒng)可以用于從超光滑鏡面到粗糙面的各種樣品進(jìn)行表面微觀(guān)測(cè)量分析和粗糙度質(zhì)量評(píng)價(jià)。白光干涉原理。
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Strain Viewer 內(nèi)應(yīng)力檢測(cè)儀具備化合物晶圓內(nèi)應(yīng)力分布測(cè)量及缺陷篩查等檢測(cè)功能
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高級(jí)研究型高光譜顯微系統(tǒng)結(jié)合了高光譜技術(shù)和顯微鏡技術(shù)，能夠在不同波長(zhǎng)范圍內(nèi)獲取高分辨率的光譜信息與生物樣品形態(tài)圖，實(shí)現(xiàn)在一張圖中同時(shí)獲取光譜和圖像信息。該系統(tǒng)還運(yùn)用AI技術(shù)實(shí)現(xiàn)虛擬染色，大幅度提高病理...
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陣列式壓力傳感系統(tǒng)通過(guò)由前端柔性陣列式微機(jī)電壓力感測(cè)器及后端軟件界面組成，前端傳感器依所承受壓力呈現(xiàn)線(xiàn)性反應(yīng)變化，壓力越大則電導(dǎo)越高，再由后端軟件將接觸面壓力分布實(shí)時(shí)呈現(xiàn)并記錄，協(xié)助設(shè)備進(jìn)行有效調(diào)整校...
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碳化硅SiC長(zhǎng)晶設(shè)備是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量SiC晶體生長(zhǎng)、高純度原料合成、高溫晶體熱處理的專(zhuān)業(yè)設(shè)備。廣泛應(yīng)用于SiC晶體生長(zhǎng)、原料合成、晶體熱處理領(lǐng)域?？梢陨L(zhǎng)6/8英寸的晶錠。
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MPCVD金剛石長(zhǎng)晶設(shè)備Intelligent MPCVD Dimond Growth System (IMD)系列金剛石晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)，是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量金剛石晶體生長(zhǎng)、高純度晶體薄膜沉積、高溫晶體熱處理的...
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Desk V 鍍膜機(jī)使用一個(gè)2英寸的陰極進(jìn)行濺射，由一個(gè)最大輸出為100毫安的直流電源驅(qū)動(dòng)。使用傾斜/旋轉(zhuǎn)臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)好的樣品覆蓋，特別是在粗糙的表面。Desk V還可以在沉積前用蝕刻臺(tái)和快門(mén)對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)...
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全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)VIL 1000納米光刻系統(tǒng)具有全自動(dòng)光路重構(gòu)、動(dòng)態(tài)鎖相、高精度步進(jìn)重復(fù)曝光等強(qiáng)大功 能。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后，無(wú)需任何手動(dòng)設(shè)置或調(diào)整，我們的自動(dòng)化系統(tǒng)可以在2 ...
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